모아의 기웃기웃 · 이해의 작업대

전공정 연재 10 / 10웨이퍼 위 회로 형성 · 금속 배선

칩 속 금속 배선은 어떻게 여러 층을 연결할까?

위아래 배선 사이에 비아를 연결하고, 신호가 어느 층까지 닿는지 살펴보세요.

왜 금속 배선이 필요할까?

금속 배선은 트랜지스터가 만든 신호를 다른 소자에 보내고, 전원과 접지도 각 소자에 전달해요. 여러 층으로 나누면 필요한 경로를 만들면서 다른 선과의 접촉을 피할 수 있어요.

SK하이닉스 금속 배선 설명

웨이퍼 준비부터 회로 형성까지 · 전공정 보기

위아래 금속선을 비아로 연결해 보세요

비아가 아래층(M1)과 위층(M2)을 이어 줘요.

비아가 있으면 아래층과 위층의 금속선이 이어져요.
빛 점은 신호가 전달되는 경로를 나타내요. 도식의 움직임은 경로를 보여 주기 위해 느리게 재생합니다.

듀얼 다마신으로 금속선을 쌓는 과정

홈과 비아 구멍을 열어요

절연막 위에 무늬를 만들고 식각해요. 비아 구멍의 바닥은 아래층 금속선까지 닿아요.

절연막에 홈과 비아 구멍을 열고 방지막과 씨앗막을 입힌 뒤, 구리를 채우고 표면을 다듬어요.
방지막과 씨앗막을 확대했어요. 포토레지스트와 층 사이의 정지층은 생략한 단면이에요.
구리절연막 확산 방지막구리 씨앗막

IBM 다마신 구리 배선 실험 · Applied Materials 듀얼 다마신 단면

폭을 100 nm에서 50 nm로 줄여 보세요

같은 길이와 두께에서 구리 폭을 절반으로 줄이면, 비저항을 고정한 모형의 저항은 두 배가 돼요. 길이와 두께도 바꿔볼 수 있어요.

구리 단면적
10,000 nm²
계산한 배선 저항
20.0 Ω
폭 100 nm일 때와 비교
1.00배
선택한 폭과 두께에 따라 구리 단면적이 바뀌어요.
기준 배선도 선택한 두께와 길이를 사용해요. 비저항 2.0 µΩ·cm를 고정하고 비아와 접점의 저항은 생략했어요.

R = ρL ÷ (폭 × 두께)예요. 저항이 크면 같은 전류에서 전압 강하가 커져요. 같은 정전용량을 충전하는 데 더 오래 걸려 신호가 느려질 수도 있어요.

MIT 배선의 저항과 정전용량 강의

실제 구리 배선은 얼마나 달랐을까?

폭이 넓은 배선
2.0 ± 0.1 µΩ·cm
폭 60 nm 미만인 배선
3.0 µΩ·cm 초과

IBM이 두께 50~140 nm의 다마신 구리 배선에서 측정한 비저항이에요. 폭이 좁아지면 단면적이 줄고, 표면 등에서 전자가 산란해 비저항도 커질 수 있어요. 실제 회로에서는 비아의 저항과 구리의 실제 단면적도 고려합니다.

IBM 구리 배선 비저항 측정 · NIST 좁은 구리선의 전자 산란 연구

칩 내부 배선에서 HBM 적층으로

칩 안의 비아는 금속 배선층을 이어 줘요. HBM의 TSV는 실리콘을 관통해 쌓아 올린 DRAM 칩 사이의 연결에 쓰여요.

SK하이닉스 TSV 제조 흐름